C10200 hapnikuvaba vask

a

C10200 on kõrge puhtusastmega hapnikuvaba vaskmaterjal, mida oma silmapaistvate füüsikaliste ja keemiliste omaduste tõttu kasutatakse laialdaselt erinevates tööstusvaldkondades. Hapnikuvaba vase tüübina on C10200-l kõrge puhtusaste, tavaliselt on vasesisaldus vähemalt 99,95%. See kõrge puhtusaste võimaldab sellel omada suurepärast elektrijuhtivust, soojusjuhtivust, korrosioonikindlust ja töödeldavust.

Suurepärane elektri- ja soojusjuhtivus
Üks C10200 materjali tähelepanuväärsemaid omadusi on selle suurepärane elektrijuhtivus, mis võib ulatuda kuni 101%-ni IACS-ist (rahvusvaheline lõõmutatud vase standard). See äärmiselt kõrge elektrijuhtivus teeb sellest ideaalse valiku elektroonika- ja elektritööstusele, eriti rakendustes, mis nõuavad väikest takistust ja suurt efektiivsust. Lisaks on C10200-l suurepärane soojusjuhtivus, mis tagab tõhusa soojusülekande, mistõttu seda kasutatakse laialdaselt jahutusradiaatorites, soojusvahetites ja mootorirootorites.

Suurepärane korrosioonikindlus
C10200 materjali kõrge puhtusaste mitte ainult ei paranda selle elektri- ja soojusjuhtivust, vaid parandab ka korrosioonikindlust. Hapnikuvaba protsess eemaldab tootmise ajal hapniku ja muud lisandid, parandades oluliselt materjali oksüdatsiooni- ja korrosioonikindlust erinevates keskkondades. See omadus muudab C10200 eriti sobivaks söövitavate keskkondade jaoks, nagu kõrge õhuniiskus, kõrge soolsus ning laevaehituse, keemiaseadmete ja uute energiaseadmete sektorites.

Suurepärane töödeldavus
Tänu oma kõrgele puhtusastmele ja peenele mikrostruktuurile on C10200 materjalil suurepärane töödeldavus, sealhulgas silmapaistev venivus, vormitavus ja keevitatavus. Seda saab vormida ja toota erinevate protsesside abil, näiteks külmvaltsimise, kuumvaltsimise ja tõmbamise teel, ning seda saab ka keevitada ja kõvajoodisega jootma. See pakub suurt paindlikkust ja võimalusi keerukate konstruktsioonide realiseerimiseks.

Rakendused uutes energiaallikates
Uute energiasõidukite kiire arengu keskel on C10200 materjalist, millel on suurepärased universaalsed omadused, saanud elektrisõidukite põhikomponentide oluline materjal. Selle kõrge elektrijuhtivus muudab selle suurepäraseks aku pistikutes ja siinides (BUSBAR); selle hea soojusjuhtivus ja korrosioonikindlus tagavad pikema kasutusea ja suurema töökindluse sellistes komponentides nagu jahutusradiaatorid ja soojushaldussüsteemid.

Tulevased arenguväljavaated
Kasvava nõudlusega suure efektiivsuse, energiasäästu ja keskkonnakaitse järele laienevad C10200 materjali rakendusvõimalused tööstus- ja elektroonikavaldkonnas veelgi. Tulevikus, tänu tehnoloogia arengule ja tootmisprotsesside täiustustele, eeldatakse, et C10200 materjalil on veelgi olulisem roll kõrgemate nõudmistega valdkondades, toetades säästvat arengut erinevates tööstusharudes.

Kokkuvõtteks võib öelda, et hapnikuvaba vaskmaterjal C10200 oma suurepäraste füüsikaliste ja keemiliste omadustega on mänginud ja mängib ka edaspidi asendamatut rolli mitmetes tööstusharudes. Selle rakendused mitte ainult ei edenda tehnoloogilist arengut seotud valdkondades, vaid aitavad oluliselt kaasa ka seadmete jõudluse parandamisele ja kasutusea pikendamisele.

C10200 Mehaanilised omadused

Sulami klass

Temperament

Tõmbetugevus (N/mm²)

Venivus%

Kõvadus

GB

JIS

ASTM

EN

GB

JIS

ASTM

EN

GB

JIS

ASTM

EN

GB

JIS

ASTM

EN

GB (kõrgepinge)

JIS(HV)

ASTM (HR)

EN

TU1

C1020

C10200

CU-0F

M

O

H00

R200/H040

≥195

≥195

200–275

200–250

≥30

≥30

 

≥42

≤70

 

 

40–65

Y4

1/4H

H01

R220/H040

215–295

215–285

235–295

220–260

≥25

≥20

≥33

60–95

55–100

40–65

Y2

1/2H

H02

R240/H065

245-345

235–315

255–315

240–300

≥8

≥10

≥8

80–110

75–120

65–95

H

H03

R290/H090

≥275

285–345

290–360

 

≥4

≥80

90–110

Y

H04

295–395

295–360

≥3

 

90–120

H06

R360/H110

325–385

≥360

 

≥2

≥110

T

H08

≥350

345–400

 

 

≥110

H10

≥360

 

Füüsikalis-keemilised omadused

Sulam

Komponent %

Tihedus
g/cm3(200C)

Elastsusmoodul (60)GPa)

Lineaarse paisumise koefitsient × 10-6/0C

Juhtivus %IACS

Soojusjuhtivus
W/(m².K)

C10220

Cu≥99,95
O≤0,003

8.94

115

17.64

98

385


Postituse aeg: 10. september 2024